PfeifferToepassing van moleculaire pompen in de productielijn van LOW-E (glas met lage straling)
LOW-E staat voor Low Emissivity Glas. Relatief thermisch reflecterend glas is een nieuw type energiebesparend glas. Op dit moment is het algemeen internationaal gebruik van vacuümmagnetron sputtering coating technologie (offline methode) voor de productie van Low-E glas. Duitse Pfeiffer verkocht door BertonMoleculaire pompsuccesvol daartoe toegepast.

Het principeGlas wordt verticaal geplaatst op de plank, in een vacuümomgeving van 10-1 Pa, in de juiste hoeveelheid procesgas (inert gas Ar of reactiegas O2, N2) en het vacuüm stabiel te houden. Het doelwit Ag, Si enz. wordt ingebed in de katode en wordt in het magnetische veld geplaatst in de horizontale richting van de katode, waardoor het magnetron doelwit wordt gevormd. Met magnetron doel als katode, in combinatie met gelijkstroom of wisselstroom voeding, onder de werking van hoge spanning, proces gas ionisatie, het vormen van plasma. Waarbij elektronen, onder de gezamenlijke werking van elektrische en magnetische velden, een hoge snelheid spiraalbeweging uitvoeren, gasmoleculen botsen en meer positiven en elektronen produceren; Positieve ionen in de werking van het elektrische veld, het bereiken van een bepaalde energie na het treffen van de katode doel, wordt gesputzen uit het doel afgelegd op het glazen substrat om een ​​dunne film te vormen. Om een ​​uniforme membranlaag te vormen, beweegt het katode-doel heen en weer dicht bij het glazen oppervlak. Om een ​​meerlaagse film te verkrijgen, moeten meerdere katoden worden gebruikt, elke katode wordt heen en weer verplaatst op het glazen oppervlak om een ​​bepaalde membrandikte te vormen.

PFEIFFER won de voorkeur van klanten op de LOW-E-markt met zijn meer dan 120 jaar ervaring in vacuümproductie en wereldwijde aftersales service en technische ondersteuning. Van Ardenne is de meest typische klant. PFEIFFERMoleculaire pompDe LOE-E productielijn wordt gebruikt in Sinyi Glas, Zuid Glas en andere Chinese glas productie reuzen.
PfeifferMoleculaire pompVoordelen:

• Meerdere pompsnelheden voor de klant, van 1.000 tot 2.000 L/S
• Voor H₂, Hij en Ar, CF₄Met hoge pompsnelheid
• Installatiepositie van 0 tot 90 graden, 90 tot 180 graden
• Hoge gasstroom, zelfs Ar, CF₄
• Geïntegreerde TC 1200-aandrijving voor directe aansluiting op de stroomvoorziening
• Corrosiebestendigheid voor keuze
• Rijke interfaces: RS-485 en afstandsbediening; Profibus of Devicenet beschikbaar
• IP 54 en Semi S2
• Stabiel en veilig rotorlagersysteem
• Voldoet aan UL, CSA en TUV certificeringen
• Eenvoudige installatie